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上浦 洋一
上浦 洋一
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Formation of low-resistivity region in p-Si substrate of SiGe/Si episystem by remote-hydrogen plasma treatment
著者
Yamashita, Yoshifumi
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Sakamoto, Yoshifumi
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Kamiura, Yoichi
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Ishiyama, Takeshi
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発行日
2008-06-29
出版物タイトル
Physica B-Condensed Matter
巻
401巻
資料タイプ
学術雑誌論文
